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华卓精科终止科创板IPO***冲刺***光刻机第一股***之路终结
华卓精科终止科创板IPO，冲刺“光刻机第一股”之路终结
近日，上交所网站披露了关于终止北京华卓精科科技股份有限公司（以下简称“华卓精科”）首次公开发行股票并在科创板上市审核的决定。这也意味着，华卓精科历时4年的上市之路最终以失败告终。
一、历时四年，上市之路曲折
早在2020年6月，华卓精科便首次递交了在科创板上市的招股说明书，并在2021年9月17日获得科创板上市委会议通过。然而，此后华卓精科的IPO进程陷入了长达三年的停滞状态，最终于2024年6月26日正式终止IPO。根据上交所披露的信息，华卓精科和其保荐人东兴证券股份有限公司分别向上交所提交了撤回首次公开发行股票并在科创板上市申请文件的申请。因此，根据相关规定，上交所决定终止对华卓精科首次公开发行股票并在科创板上市的审核。
二、公司背景及业务概况
华卓精科成立于2012年5月，是一家以超精密测控技术为基础，研究、开发以及生产超精密测控设备部件和整机，并提供相关技术开发服务的科技公司。其主要产品包括精密运动系统、光刻机双工件台模块、静电卡盘、晶圆级键合设备和激光退火设备等，主要应用于集成电路制造、超精密制造、光学、医疗、3C制造等行业。
公司原拟在上交所科创板公开发行新股8000万股，计划募资7.35亿元，用于半导体装备关键零部件研发制造项目、超精密测控产品研发中心、集成电路装备与零部件产品创新项目等。
三、经营业绩及研发投入
从业绩来看，2018-2020年度，华卓精科的营收分别为8570.92万元、1.21亿元和1.52亿元，净利润分别为1512.36万元、2087.24万元和1242.83万元。三年累计营收不到3.59亿元，净利润仅为4842.43万元。
在主营业务方面，华卓精科的主要营收来自于“超精密测控设备部件”，2018-2020年分别为8011.74万元、8463.08万元和11798.42万元，占整体营收的比例分别为93.48%、69.94%和77.56%。
然而，公司的研发投入并不高。2018-2020年度，华卓精科研发投入分别为1374.99万元、1741.59万元和2137.09万元，占总营收的比例分别为16.04%、14.03%和14.40%。
四、与清华大学的紧密联系
华卓精科与清华大学有着密切的合作关系。截至2021年6月30日，华卓精科与清华大学作为共同专利权人拥有的专利共计162项，其中协议转让方式获取的专利115项、委托开发方式获取的专利30项、合作研发方式获取的专利17项，清华大学授权公司独占实施许可的专利1项。
朱煜是华卓精科的董事、核心技术人员及首席科学家，直接持有公司35.72%的股份，同时通过艾西科技和艾西博锐间接持有公司股份，合计持股比例为54.23%。
五、光刻机双工件台业务面临挑战
虽然华卓精科一直顶着“光刻机概念第一股”的光环，但其光刻机双工件台业务的商业化前景并不明朗。根据2023年12月披露的信息，2017-2020年9月，光刻机双工件台销量为0。2020年4月，华卓精科向上海微电子发货一台光刻机双工件台，但尚未通过验收。此外，公司在收入构成中，光刻机双工件台的实际销售内容为技术服务与双工件台模块，而非双工件台本身。
六、多家半导体企业IPO终止
不仅仅是华卓精科，2024年已有超过十家半导体企业终止科创板IPO，其中包括大连科利德半导体材料股份有限公司、得一微电子股份有限公司、合肥芯谷微电子股份有限公司等。这一现象反映了当前半导体企业在冲击科创板上市过程中所面临的严峻挑战。
七、总结
华卓精科的IPO历程折射出当前半导体行业在技术研发、市场竞争及政策环境方面所面临的复杂局面。尽管在技术研发方面取得了一定的成就，但在商业化落地和规模化生产方面仍需克服诸多困难。未来，华卓精科能否通过持续创新和技术突破，实现商业化目标，还有待时间的检验。
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拓荆科技什么时候上市
2021年11月5日，拓荆科技股份有限公司科创板IPO已提交注册，上市时间还在等待中。
【拓展资料】
拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆公司”或“公司”）成立于2010年4月，于2021年1月12日整体变更为股份有限公司。公司总部位于辽宁省沈阳市浑南区，并在北京、上海、海宁成立三家子公司。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司多次承担国家重大科技专项，被中国半导体行业协会评为2016年度、2017年度、2019年度“中国半导体设备五强企业”。
公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，技术指标达到国际同类产品先进水平，产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等高端技术领域。目前，公司研发的PECVD、ALD及SACVD设备系列化产品已累计发货超150台，客户端总流片量突破1500万片。公司产品获得两届中国集成电路创新联盟的IC技术创新奖、辽宁省科技进步一等奖等荣誉。
公司现有十余名海外高层次专家，结合国内优秀人才，形成了一支国际化的专业团队，具备高科技研发实力及管理经验，截至2021年6月30日，公司员工总数超350人（含子公司）。通过多年技术积累，公司已形成自主知识产权体系，截至2021年6月30日，累计获授权专利超160项，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。
公司总部占地80亩、总建筑面积达40，000平方米，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房、先进和完备的无尘实验室及系列高端薄膜实验设备，用以研制和生产科技领先的半导体薄膜设备。公司产业化基地第一期生产能力可实现年产100台套，全部投产可达350台套设备，可以满足下游客户增产需求。
公司拥有覆盖全球的供应商网络，并在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心，可为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。公司运营管理体系已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证。
公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，共同为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。